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第二百三十七章:真正的战斗(第3/4页)

更短的时间内,跨越更大的技术台阶。

但谢建军认为,ASML启动熔岩计划后,必然会以前所未有的速度,推进其浸没式光刻技术的研发。

如果他们按部就班地按照原定计划推进,很可能会被ASML重新拉开差距。

只有采取更加激进的策略,才有可能在这场竞赛中,始终保持领先。

“告诉秦师傅,告诉刘欣,告诉陈向东,告诉渊基地和星火基地的每一个人,”谢建军在项目核心成员的动员会上,声音斩钉截铁的说道。

“ASML想用熔岩烧死我们,那我们,就用拂晓的光芒,照亮整个时代!”

“目标:65纳米!”

“时间:1999年底!”

“只许成功,不许失败!”

会议室里,短暂的沉默后,爆发出一阵雷鸣般的响应声。

一场决定未来数十年全球半导体产业格局的、真正的巅峰对决,已经在两个相隔万里的国度之间,以前所未有的速度和强度,全面展开。

胜负,尚未可知。但双方都已经亮出了自己最锋利的爪牙,准备进行一场生死搏杀。

1998年12月,魔都,渊基地。

距离谢建军下达65纳米攻坚令,已经过去了一个多月。渊基地的运转节奏,比之前任何时候都要紧张。

秦师傅带领着核心团队,几乎住在了车间里,对拂晓三代机进行着一轮又一轮的硬件升级和调试。

新的投影物镜系统、更高灵敏度的浸没单元、以及更高速更精密的工件台,正在逐步替换掉原有的部件。

然而,65纳米节点的挑战,远不止硬件升级那么简单。

随着分辨率的提升,光刻胶的灵敏度,线宽粗糙度、以及缺陷控制等工艺问题,都变得更加棘手。

为了解决这些问题,刘欣带领的朱雀算法团队,不得不与国内几家顶尖的化工,和材料研究所合作,共同开发适用于65纳米节点的,新型光刻胶材料和工艺。

这天下午,刘欣刚从外地出差回来,风尘仆仆地赶到渊基地,准备与秦师傅沟通一批,新型光刻胶样品的测试结果。

她刚走进总装大厅,就看到秦师傅正站在拂晓三代机旁边,手里拿着一张图纸,眉头紧锁,与几位核心骨干激烈地讨论着什么。

“秦师傅,发生什么事了?”刘欣走过去,关切地问道。

秦师傅抬起头,看到是刘欣,紧锁的眉头稍微舒展了一些,但语气依然带着一丝凝重:“小刘,你来得正好。我们刚刚发现一个问题,可能比较棘手。”

他指着图纸上投影物镜系统的一个局部结构:“为了实现65纳米节点的分辨率,我们对物镜系统的数值孔径提出了更高的要求。

但现有的镜片材料和镀膜工艺,在满足高数值孔径的同时,对深紫外激光的吸收率会显著上升,导致镜片在工作过程中发热加剧,引起热漂移,影响成像质量。”

“我们尝试了几种新的镜片材料和镀膜方案,但效果都不太理想。要么是吸收率降下来了,但折射率均匀性又出了问题。

要么是折射率均匀性满足了要求,但抗激光损伤阈值又不够高。总之,总是无法同时满足所有指标。”

刘欣接过图纸,仔细端详了片刻。她虽然不是光学设计专家,但长期与光刻系统打交道,对物镜系统的基本原理和关键技术指标,也有着相当深入的了解。

她沉吟了片刻,突然想起了一件事。

“秦师傅,我记得,我们之前与中科院长春光机所,合作开发了一种新型的氟化物光学晶体材料,据说在深紫外波段的透过率和抗激光损伤性能都非常优异。

不知道那种材料,是否有可能应用于我们的物镜系统?”

秦师傅闻言,眼睛顿时一亮:“哦?有这种事?我怎么不知道?”

“那是两三年前的一个预研项目了,当时主要是为了验证材料本身的性能,并没有考虑具体的应用场景。



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